{"id":5625,"date":"2026-08-29T11:20:00","date_gmt":"2026-08-29T11:20:00","guid":{"rendered":"https:\/\/beiyutitanium.com\/titanium-in-chlor-alkali-cells\/"},"modified":"2026-08-29T11:20:00","modified_gmt":"2026-08-29T11:20:00","slug":"titanium-in-chlor-alkali-cells","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/beiyutitanium.com\/es\/titanium-in-chlor-alkali-cells\/","title":{"rendered":"Titanio en celdas de cloro-\u00e1lcali: recubrimiento y campos del pedido"},"content":{"rendered":"

En una celda de cloro-\u00e1lcali, el titanio no realiza el trabajo electroqu\u00edmico. Lo realiza el recubrimiento. El titanio est\u00e1 ah\u00ed porque es un metal v\u00e1lvula: donde el recubrimiento se desgasta por completo, el sustrato expuesto vuelve a pasivarse en lugar de disolverse, lo que permite volver a recubrir la misma base de \u00e1nodo en lugar de desecharla.<\/p>\n

Qu\u00e9 recubrimiento requiere un servicio de cloro<\/h2>\n

La familia del recubrimiento, no el sustrato, determina para qu\u00e9 reacci\u00f3n se fabrica el \u00e1nodo, e introducir una familia incorrecta en un servicio acorta su vida \u00fatil:<\/p>\n\n\n\n\n\n
Familia de recubrimiento<\/th>\nPara qu\u00e9 est\u00e1 dise\u00f1ado el recubrimiento<\/th>\nD\u00f3nde se suministra habitualmente<\/th>\n<\/tr>\n
A base de rutenio<\/td>\nEvoluci\u00f3n de cloro<\/td>\nProducci\u00f3n c\u00e1ustica con diafragma, electr\u00f3lisis de hipoclorito de sodio<\/td>\n<\/tr>\n
A base de iridio<\/td>\nEvoluci\u00f3n de ox\u00edgeno<\/td>\nL\u00e1mina de cobre electrol\u00edtico, formaci\u00f3n de l\u00e1mina de aluminio, electrodeposici\u00f3n, servicio \u00e1cido<\/td>\n<\/tr>\n
Recubierto de platino<\/td>\nRecubrimiento de platino<\/td>\nElectr\u00f3lisis de agua funcional, electrodeposici\u00f3n de metales preciosos<\/td>\n<\/tr>\n<\/table>\n

La evoluci\u00f3n de cloro y la evoluci\u00f3n de ox\u00edgeno corresponden a procesos electroqu\u00edmicos distintos, y un recubrimiento ajustado para uno no es una versi\u00f3n m\u00e1s barata del otro. Una consulta de cloro-\u00e1lcali que solo indique el tama\u00f1o del \u00e1nodo a\u00fan no ha definido cu\u00e1l de los tres necesita.<\/p>\n

Los l\u00edmites de funcionamiento dentro de los que se oferta cada recubrimiento<\/h2>\n

Cuatro cifras determinan si un \u00e1nodo es adecuado para la celda, y una consulta que las incluya puede responderse en una sola ronda:<\/p>\n\n\n\n\n\n
Familia de recubrimiento<\/th>\nDensidad de corriente<\/th>\nTemperatura de funcionamiento<\/th>\nEspesor del recubrimiento<\/th>\nCarga de metal precioso<\/th>\n<\/tr>\n
A base de rutenio<\/td>\nPor debajo de 2000 A\/m²<\/td>\nIndicada junto con el servicio<\/td>\n5 a 20 µm<\/td>\n5 a 20 g\/m²<\/td>\n<\/tr>\n
A base de iridio<\/td>\nPor debajo de 2000 A\/m²<\/td>\nPor debajo de 70 °C<\/td>\nIndicada junto con el servicio<\/td>\n10 a 45 g\/m²<\/td>\n<\/tr>\n
Recubierto de platino<\/td>\nPor debajo de 4000 A\/m²<\/td>\nPor debajo de 80 °C<\/td>\n0.5 a 10 µm<\/td>\nIndicada junto con el servicio<\/td>\n<\/tr>\n<\/table>\n

El sistema de rutenio tambi\u00e9n est\u00e1 limitado por la concentraci\u00f3n del \u00e1cido y se suministra para servicio con \u00e1cido clorh\u00eddrico por debajo del 20 por ciento. La carga de metal precioso es el campo que suele omitirse en las consultas, y afecta a la vida \u00fatil, por lo que corresponde indicarla junto al \u00e1rea activa en lugar de dejar que el proveedor la suponga.<\/p>\n

Antes de nada, compare la fila de densidad de corriente con su propia celda. El l\u00edmite publicado para rutenio, inferior a 2000 A\/m², es la cifra indicada para servicio con diafragma e hipoclorito. Las celdas de cloro-\u00e1lcali de membrana funcionan a intensidades considerablemente superiores, por lo que una consulta de una planta de membrana deber\u00eda indicar en la primera l\u00ednea el tipo de celda y su densidad de corriente de funcionamiento, y confirmar los l\u00edmites aplicables en lugar de deducirlos de esta p\u00e1gina.<\/p>\n

\"Coated<\/p>\n

Por qu\u00e9 puede reutilizarse el sustrato<\/h2>\n

El titanio es un metal v\u00e1lvula, de modo que donde un recubrimiento se desgasta por completo, la base expuesta vuelve a pasivarse en lugar de corroerse, y el mismo sustrato puede decaparse y recubrirse de nuevo m\u00e1s de una vez. El decapado se realiza con sales fundidas, ebullici\u00f3n en \u00e1cido o electr\u00f3lisis con sulfatos, y el punto en que volver a recubrir resulta m\u00e1s conveniente que sustituir depende del coste del aumento de tensi\u00f3n de la celda. La decisi\u00f3n de volver a recubrir es aritm\u00e9tica, no una preferencia: pasa a ser la opci\u00f3n m\u00e1s econ\u00f3mica cuando la p\u00e9rdida debida al aumento de tensi\u00f3n de la celda supera el coste del nuevo recubrimiento.<\/p>\n

Un comprador que prevea volver a recubrir deber\u00eda indicarlo en la consulta: cambia las condiciones que deben soportar el dise\u00f1o del sustrato y el detalle de la conexi\u00f3n.<\/p>\n

La parte del pedido relativa al sustrato<\/h2>\n

ASTM B265 rige el sustrato de titanio sobre el que se fabrican los \u00e1nodos recubiertos, y sus l\u00edmites de elementos intersticiales constituyen la diferencia pr\u00e1ctica entre las calidades del sustrato. Seg\u00fan ASTM B265, Grade 1, UNS R50250, limita el ox\u00edgeno al 0,18 por ciento y el hierro al 0,20 por ciento, proporcionando la base m\u00e1s conformable para mallas y formas de embutici\u00f3n profunda; seg\u00fan la misma especificaci\u00f3n, Grade 2, UNS R50400, admite un 0,25 por ciento de ox\u00edgeno y un 0,30 por ciento de hierro, con una resistencia a la tracci\u00f3n m\u00ednima de 345 MPa. Como el recubrimiento realiza el trabajo electroqu\u00edmico, esos l\u00edmites de composici\u00f3n son los que deber\u00eda indicar el plano de un \u00e1nodo para el material base, en lugar de un nombre comercial.<\/p>\n

La forma es una l\u00ednea de pedido distinta del recubrimiento. Los \u00e1nodos se producen como chapa gruesa, varilla, chapa fina, alambre, malla, tubo, anillo, fleje y cesta, y la malla es habitual en las celdas: ofrece m\u00e1s \u00e1rea activa con la misma superficie ocupada y permite que el gas abandone la superficie. Qu\u00e9 forma se adapta a una celda concreta es una cuesti\u00f3n de dise\u00f1o que responde el comprador, no algo que determine la familia del recubrimiento.<\/p>\n

\"Coated<\/p>\n

Qu\u00e9 debe indicar una consulta de \u00e1nodos para cloro-\u00e1lcali<\/h2>\n

Los cinco primeros campos corresponden a la celda; los dos \u00faltimos, al \u00e1nodo como pieza f\u00edsica. Una consulta que omita los cinco primeros no puede responderse.<\/p>\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n
Campo<\/th>\nPor qu\u00e9 determina la oferta<\/th>\n<\/tr>\n
Tipo de celda<\/td>\nDiafragma, membrana o hipoclorito; determina qu\u00e9 l\u00edmites se aplican<\/td>\n<\/tr>\n
Familia de recubrimiento<\/td>\nRutenio para la evoluci\u00f3n de cloro; lo determina el servicio, no el precio<\/td>\n<\/tr>\n
Densidad de corriente<\/td>\nSe contrasta con los l\u00edmites anteriores<\/td>\n<\/tr>\n
Electrolito y concentraci\u00f3n<\/td>\nEl servicio del rutenio se limita a \u00e1cido clorh\u00eddrico por debajo del 20 por ciento<\/td>\n<\/tr>\n
Temperatura de funcionamiento<\/td>\nLos sistemas de iridio y platino tienen l\u00edmites m\u00e1ximos de temperatura<\/td>\n<\/tr>\n
Carga de metal precioso<\/td>\nAfecta a la vida \u00fatil; no es un valor predeterminado del proveedor<\/td>\n<\/tr>\n
Calidad y forma del sustrato<\/td>\nGrade 1 o Grade 2, como chapa gruesa, malla, tubo, anillo, varilla, alambre o cesta<\/td>\n<\/tr>\n
Intenci\u00f3n de volver a recubrir<\/td>\nCambia el dise\u00f1o del sustrato y de la conexi\u00f3n<\/td>\n<\/tr>\n<\/table>\n

Detalles de especificaci\u00f3n con fuentes<\/h2>\n

Las cifras de recubrimiento de esta p\u00e1gina proceden del rango de suministro de \u00e1nodos de Beiyu Titanium: recubrimientos a base de rutenio por debajo de 2000 A\/m², con espesor de 5 a 20 µm y carga de 5 a 20 g\/m², limitados a \u00e1cido clorh\u00eddrico por debajo del 20 por ciento; recubrimientos a base de iridio por debajo de 2000 A\/m² y por debajo de 70 °C, con 10 a 45 g\/m²; recubrimientos de platino electrodepositado por debajo de 4000 A\/m² y por debajo de 80 °C, con 0.5 a 10 µm. Los \u00e1nodos se producen como chapa gruesa, varilla, chapa fina, alambre, malla, tubo, anillo, fleje y cesta, enumerados conjuntamente en lugar de asignar una forma a cada servicio, por lo que esta p\u00e1gina no vincula un recubrimiento con una \u00fanica forma.<\/p>\n

Los l\u00edmites de composici\u00f3n del sustrato son los de ASTM B265 para Grade 1, UNS R50250, y Grade 2, UNS R50400. El recubrimiento se describe por su proceso, no por una especificaci\u00f3n de material, por lo que un pedido de \u00e1nodos incluye dos criterios de aceptaci\u00f3n. El sustrato de titanio recibe un certificado de inspecci\u00f3n 3.1 seg\u00fan EN 10204 con trazabilidad por n\u00famero de colada; el recubrimiento se registra seg\u00fan el proceso mediante el que se aplic\u00f3.<\/p>\n

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